高レベルの金属ニッケルターゲットの1つ

ニッケルターゲットおよびその準備方法。本発明は、ニッケルレニウム合金ターゲットとその調製方法を提供します。ニッケルレニウム合金ターゲットは、ニッケル、レニウム、および最初の金属成分で構成されています。最初の金属成分には、アルミニウム、ジルコニウム、またはその組み合わせが含まれます。ニッケルレニウム合金ターゲットの総数に基づいて、レニウム含有量の総数は0}}}}}}原子の割合を超えており、原子は7つの原子成分よりも等です。 0原子パーセンテージと3つの原始的な比率以下。

1.ターゲットアセンブリの製造方法は次のとおりです。ニッケルターゲットブランクとニッケルターゲットブランクを収容する溝付きのバッキングプレート。ろう付け金属を使用して、表面に最初のろう付けの材料層を形成し、ニッケルターゲットブランクを溶接します。ろう付けの金属を利用して、表面に2番目のろう付け材料層を形成して、記述されたバックプレートで溶接します。ニッケルターゲットブランクはバックプレートの溝に入れられ、最初のろう付け材料層と2番目のろう付け材料層は、溶接プロセスによって組み合わされて、ニッケルターゲットブランクとバックプレートで構成されるターゲットアセンブリを形成します。本発明は、超高純度ニッケルターゲット材料を作成し、バックプレートを確実に組み合わせることができ、溶接効率が高く、溶接欠陥速度が小さく、長期安定生産のニーズとターゲットの使用が満たされます。

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