製品パラメータ
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学年 |
化学成分% |
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SiC(シリコン) |
F.C |
Fe2O3 |
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以上 |
以下 |
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SiC98の |
98 |
0.3 |
0.8 |
|
SiC97の |
97 |
0.3 |
1 |
|
SiC95の |
95 |
0.4 |
1 |
|
SiC90 |
90 |
0.6 |
1.2 |
|
SiC88の |
88 |
2.5 |
3.5 |
包装:顧客の要求に応じてカスタマイズされます。

製品説明
炭化ケイ素(SiC)は、ケイ素(Si)と炭素(C)の2つの元素から構成される化合物半導体材料です。ダイヤモンドに次ぐ硬度を持つ非常に硬い鉱物粒子です。硬度が高いため、研磨材や研削材としてよく使用されます。高温では、炭化ケイ素は特定の酸化物と反応して、対応するケイ酸塩または炭化物を生成することがあります。炭化ケイ素は熱伝導率が高いため、高温環境でも安定した性能を維持できます。

炭化ケイ素の調製には、通常、高純度ケイ素粉末と高純度炭素粉末を合成反応させ、物理的気相輸送(PVT)などのプロセスを通じて炭化ケイ素の結晶を成長させ、その後、必要な形状およびサイズに加工するプロセスが含まれます。切断、研削、研磨など。

炭化ケイ素は、その独特の物理的および化学的特性により、多くの分野で幅広い用途があります。炭化ケイ素は硬度が高いため、研磨材や研削媒体の製造に理想的な材料です。砥石、サンドペーパー、砥石などの製造に使用でき、ガラス、セラミックス、石材、金属などの研削、研磨、切断工程に広く使用されています。炭化ケイ素は耐高温性、化学的安定性に優れているため、耐火物として広く使用されています。さまざまな形状やサイズの耐火レンガ、耐火コーティング、耐火パイプなどを作ることができ、高温炉、熱交換器、バーナーなどの高温環境を改善するための機器のライニングや保護層として使用できます。耐久性を高め、機器の寿命を延ばします。耐用年数。炭化ケイ素は第 3 世代の化合物半導体材料として、半導体分野で大きな利点を持っています。ダイオード、トランジスタ、パワーエレクトロニクスデバイスなどに加工でき、新エネルギー自動車、5G通信、スマートグリッド、航空宇宙などの分野で利用される。炭化ケイ素デバイスには、高絶縁破壊電界、高電力密度、低損失、および高い動作温度という利点があり、機器の効率と信頼性を大幅に向上させることができます。

炭化ケイ素セラミックは、耐摩耗性、耐高温性、耐食性に優れたハイテクセラミック素材です。防弾チョッキ、セラミックベアリング、セラミック切削工具などの高性能セラミック製品だけでなく、航空宇宙産業や原子力産業などの極限環境向けの構造部品や機能部品の製造にも使用できます。冶金産業では、炭化ケイ素は脱酸剤および脱硫剤として使用できます。溶鋼中の遊離酸素および金属酸化物と反応して一酸化炭素およびシリコン含有スラグを生成し、それによって溶鋼を浄化し、鋼の品質を向上させることができます。さらに、炭化ケイ素は、鋳造業界で鋳物の構造と特性を改善するための接種剤および改質剤としても使用できます。
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